年德国与日本等国的科学家联合打造了一个世界上最圆的球体，别看球体其貌不扬而其中却包含着多种顶尖技术，其中的技术我国至今都未曾掌握。或许你会有疑惑不就是一个圆球嘛，以中国目前的工业科技能制造部不出来，这个技术还能封锁中国不成？圆球在加工制作过程中，要经过超精密抛光工艺，而中国目前未曾掌握的正是超精密工艺抛光，目前这项技术也是对中国封锁的技术。在常规设备制造中会把研磨和抛光归类在一起，其实它们之间有很大的同，研磨是通过机床或其它机械对表面进行高精度加工，表面粗糙度可达到0.63-0.01微米，抛光是利用机械，化学或电化学作用使材料表面粗糙度进一步降低，抛光达到的表面光洁度比研磨更高。上世纪世界各国还在普遍使用的物理抛光技术，但是随着电子工业高速发展，对材料器件的尺寸和精度也提出更加苛刻的要求，以晶片制造为例，一毫米厚度的基片上需要放置几十万条集成电路，老旧抛光工艺已经远远不能满足要求，只能采用超精度工艺进行抛光，此外像医疗器械，汽车配件，数码配件，航天航空等，都需要用到超精密抛光。如今的单晶硅片材料早已进入纳米级别，中国如果不能掌握超精度抛光技术，在众多制造领域一样会有卡脖子的危险，没有掌握这行技术也称不上是制造强国。我国超精密抛光领域负责人曾表示，如果把抛光工艺比作煎饼，那卡我们脖子的就是锅，国外的锅可以不沾锅底，而目前我国还没有达到此工艺并且有一段距离，这里所说的锅就是抛光机的核心器件磨盘。超精度抛光对磨盘达到几乎极限苛刻的要求，这种由特殊材料合成的钢盘在工作时，不仅要满足纳米级别精度，更要具备精确的热胀冷缩系数，当抛光机高速运转时磨盘会出现发热现象，从而产生热形变磨盘平面精度就达不到要求，被加工的材料器件也会随之产生变形问题。目前国外的热变形误差在几纳米范围之内，而美国和日本就掌握着此技术的顶尖工艺，可以满足60英寸基片材料的精密抛光要求，60英寸材料目前在国际上属于超大尺寸。在高科技领域通常说谁掌握了技术就是掌握市场，而掌握超精度抛光技术可以说就是掌握了全球电子制造业发展，如果美国和日本完全在超精度抛光技术封锁，那么我国在电子制造业也是举步维艰从而影响众多领域的发展。日本目前在抛光机磨盘均为定制，不进行批量生产目的就是为了限制技术仿制，我国大部分抛光设备均从美国进口，而且价格不菲都在万美元以上，要拿到产品还需要排队等候。中国目前的超精度抛光技术处于什么层次水平呢？如果说研制超精度抛光技术要经过三个步骤，那么中国目前才完成了第一步。我国早在年就研发了二氧化铈微球粒度标准物质及其制备技术，该材料在经过试验后，和当前国际上的超精密抛光水平相差不多，但对于整个抛光工艺来说只有材料没有抛光机械，只能算做一个卖材料的。从研制出材料到如今已经走过了9年时间，科研团队也对当前的超精度抛光技术有着清醒的认知，我国拥有了顶级抛光材料仅仅是基础，更正要的是解决磨盘问题，其次是要解决抛光面积大小。从研发9年还没能突破该技术就知道此技术的难度，美国和日本在抛光机磨盘材料构成和制作工艺方面保密，究竟用什么材料才能合成热膨胀率低，耐磨度高，耐磨面超精密的磨盘我们一概不知，这也是中国科研人员需要攻克的最大技术难题。无论研发过程有多艰难，我们需要明白的是超精度抛光磨盘，中国不可能从被人手里获取，要想打破技术封锁，除了依靠自己的研发别无选择。

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