国产芯片要想在年实现70%自给率，那么关键设备必不可少。在芯片制作过程中，光刻机作为核心设备，其重要程度不言而喻。而单单只有光刻机是远远不够的。复杂的芯片制造过程，离不开蚀刻机和离子注入机。目前，中微半导体已交付5nm蚀刻机，三星、台积电等已经购买。如今，中国电科也突破了关键“芯”设备，重要程度堪比光刻机的“离子注入机”。大家好，我是青源，专注于科技领域资讯分享。今天给大家分享的是关键“芯片”设备——离子注入机。

01什么是离子注入机

离子注入机在芯片制造前工序中扮演者重要的角色，是芯片制造过程中的关键设备。它是一种高压小型加速器，经过加速得到几百千电子伏的离子束流。可对芯片进行掺杂，实现半导体表面杂质的均匀分布，提高芯片的集成度和降低芯片功耗。中国电科攻克的是28nm离子注入机。以前此类设备都需要从西方进口，芯片制作成本大，万一对方不卖，那么我们还面临被“卡脖子”的风险。中国电科突破以后，我们将不再从国外进口，反而可以对外出售，不仅能够降低芯片制作的成本，而且还能从国外大赚一笔。

02离子注入机的重要性

那么离子注入机有多重要呢？为什么离子注入机的突破就能够击碎西方的封锁链呢？芯片的制造流程大致可分为芯片设计、芯片制造、封装、测试等四个必需环节。芯片设计目前国内有华为海思、紫光展锐等优秀企业，芯片制造有中芯国际，封装测试等也达到了世界领先水平。那么这四个环节中，芯片制造最为重要，中芯国际最为国内大陆最强、最大，但是相比台积电、三星等还不能同日而语。就是因为缺少关键设备。芯片制造需要用到六大关键设备，分别是扩散炉、蚀刻机、薄膜沉积设备、抛光机、清洗机、离子注入机。离子注入机、光刻机、蚀刻机、镀膜机并称芯片制造四大核心设备。离子注入机的研发难度仅次于光刻机，可想而知离子注入机的重要性有多大。前面说了，我国此前一直都是购买国外的设备，成本和风险都比较高。中国电科的突破就标志着击碎了西方的封锁链。在芯片制造环节上又多了一张“王牌”。

03离子注入机突破的意义

离子注入机的重要性大家都知道了，那么它的突破有什么重大意义呢？对于国产芯片有什么好处呢？离子注入机可谓是“国之重器”，加上中微5nm蚀刻机、上微28nm光刻机（目前还未交付）、中芯7nm工艺等核心技术，国产芯片将迎来“爆发期”。芯片制造过程中的关键设备纷纷传来突破的好消息，华为目前也传来要自研光刻机，清华大学的EUV光源也取得重大突破，这一系列的好消息都在说明，中国芯片正在加入前进，击碎西方垄断格局只是时间问题。可能很多人会觉得目前我们突破的只是28nm以及28nm以上的离子注入机，并且上海微电子要交付的也是28nm光刻机，看起来好像意义不大。但青源想要告诉大家，28nm到55nm才是目前市场主流，中芯国际和台积电纷纷扩产28nm生产线，中国院士吴汉明也曾多次表态55nm才是关键。在目前缺芯的市场环境下，成熟的工艺更为重要。所以，中国电科的28nm离子注入机将会为中国芯片事业做出重大贡献，成为芯片主流市场中的一颗新星。对于中国电科突破28nm离子注入机，小伙伴们还有什么想说的可以在评论区留言，有什么问题都可以提问。我是青源，

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