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国产光刻胶取得进展！光刻机国产化再一迈步！

今日，在半导体光刻方面，我国企业上海新阳公司又传出了令人振奋的好消息，消息称，上海新阳研发的国产光刻胶ArF和ArF-i进展非常顺利，目前已经完成了两个系列的试验产品，而且成品正在送检测试中。

据悉，这次的成品的总体技术指标很不错，上海新阳对这两款产品显示了充足的信心。由于产品的测试时间比较长，正式发售时间会再过一段时间另行公布。

这也是我国目前在研发半导体光刻机重要的材料方面的重大突破。为了突破光刻机的设备和材料、辅材的瓶颈，我国半导体行业的各大厂商均加强了在新产品发面的研发，光刻胶也是其中重要的环节。

目前光刻胶大部分技术都掌握在欧美和日本的厂商手中，为了不被海外的厂商卡脖子，这次上海新阳迈出了重要的一步。

半导体材料巨头上海新阳

上海新阳的专业是半导体行业所需要的电子化学品的研发生产和销售，上海新阳还投资了半导体硅片、报道提湿法制程的设备，主要提供晶圆加工和封测重的电子化学品、色号被、划片刀等，比如光刻胶。

半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料两大类，晶圆制造材料主要分为硅片及硅基材料、光掩模版、电子气体、光刻胶及试剂、CMP抛光材料、工艺化学品、靶材及其他。上海新阳主要就是在这两大领域中耕耘。

比如在晶圆制造中的材料包括芯片铜互连超纯电镀液与添加剂、氮化硅蚀刻液、干法蚀刻后清洗液、高端光刻胶、CMP抛光液、在半导体封装方面的产品有引线脚溢料去除技术、半导体配套设备产品，氟碳涂料产品系列等。

尤其在芯片铜互连超纯电镀液与添加剂方面，上海新阳是国内目前唯一一家能够提供满足晶圆铜制程90-14nm全技术节点超高纯铜电镀液及添加剂的本土企业。

未来将重点突破光刻胶技术

上海新阳拼接技术实力，在最近表示，未来上海新阳的重点将是光刻胶业务板块。上海新阳将在光刻胶的全系列产品上进行研发，其中目前上海华阳的光刻胶产品就已经包括了i线胶、KrF胶、ArF干法和ArF湿法胶。而且高端的EUV光刻胶也正在和国外的科研团队进行研发。

据公开资料显示，上海新阳目前已经完成了一些光刻胶的客户认证，预计明年将进入正式的销售，在产能方面，上海工厂的两条生产线可以提供50吨，合肥厂正在建设中，建成之后即将生产KrF光刻胶吨，完全生产可提高到吨。

这次正在送检的两款光刻胶产品，也将是上海新阳主打的两款高端光刻胶产品，而且将为国内的知名芯片制造和封装企业供货。

写到这里

光刻机作为晶圆加工和封测的最重要的化学电子材料，目前在我国尚属于空白，上海新阳公司无疑在短时间内研发出了新产品，这在推进我国的光刻工艺和半导体生产方面具有重大的意义。

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