PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。物理气相沉积技术方法主要有真空蒸发镀膜、离子镀、溅射镀膜等。

PVD技术基本工艺流程如下：

工件—镀前处理—装件—抽真空—烘烤—离子轰击—预熔—蒸发沉积—冷却—取件—后处理—成品

本文所说的特殊功能性碳氢清洗剂是碳氢清洗剂通过改性后其产品性能与清洗能力具有质的提升，是普通碳氢清洗剂无法彻底洗净的。应用在镀前处理清洗工序上，工件经清洗后，表面不得有油污、油脂、水锈和水渍等残留物。清洗后的工件严禁用裸手触摸，工件应及时镀膜或存放在洁净的干燥器、真空室内，存放不得超过24小时。

PVD清洗工艺根据工件清洁度的要求不同进行选择：

1、水基清洗

水基清洗—清水漂洗—2-3道去离子水漂洗—脱水—吹干---进入下道工序

2、溶剂清洗

溶剂清洗—2-3道溶剂漂洗---吹干---进入下道工序

3、组合型清洗

溶剂清洗---吹干---水基清洗剂—漂洗—电解清洗—漂洗—活化—漂洗—脱水--烘干—进入下道工序

4、清洗剂的选择：清洗剂的选择根据油污情况进行选用，如除蜡水、水基清洗剂、三氯乙烯等；水基清洗剂工艺复杂，用水量大，环保排放困难；溶剂型（如三氯乙烯）清洗效果好，工艺简单，但挥发快，消耗量大，破坏环境，对人体有害，是国家要淘汰的产品

特殊功能性碳氢清洗剂清洗工艺如下：

功能性碳氢清洗剂---功能性碳氢清洗剂—碳氢漂洗—碳氢漂洗—真空蒸汽清洗干燥---进入下道工序

根据物理气相沉积（PVD）工艺中清洗工序的要求，开发出的特殊功能性碳氢清洗剂是取代含氯、氟溶剂和水基清洗剂优秀产品，其清洗彻底，无排放之忧，工艺简单，符合环保政策，可蒸馏回收使用成本低。特殊功能性碳氢清洗剂可以清洗抛光蜡、胶粘、油脂、油污、切屑液、冲压炭黑、松香等，特殊污渍可个案开发。