CINNOResearch产业资讯，GreenOptics公司研发了半导体曝光设备-极紫外线(EUV)用BlankMask石英基板抛光技术。EUVBlankMask是在半导体晶圆上刻上超细微电路时使用的PhotoMask原材料。该技术被日本豪雅（HOYA）、旭硝子（AGC）等日本少数企业垄断，在韩国尚属于首次开发。

根据韩媒ETNews报道，为了在Mask上形成图案，需要使用激光。EUV设备需要调整激光透过，并使热缺陷最小化的高端BlankMask。

GreenOptics的BlankMask引入了可控制到埃（等于10米）单位的抛光技术。埃是亿分1米的单位，可将厚度3毫米，横向、纵向毫米的石英基板抛光至埃单位的水平。

抛光技术是利用自家抛光设备“磁流体抛光加工(MRF)”设备开发的。该设备对于镜头、镜子、滤光片等光学部件的抛光必不可少。GreenOptics从年开始研发了搭载于卫星上的光学镜头，最近曾制作过用于印度宇宙开发结构(ISRO)地球观测用相机的非轴对称非球面光学镜。除了抛光设备，还加强了加工机、涂布机、测量仪等光学零部件制造所需的技术、设备投资。

BlankMask结构

GreenOptics投身于EUVBlankMask技术开发，是因为半导体PhotoMask的韩国国产化需求。目前，通过引进三星电子、英特尔、TSMC等半导体EUV设备，增强先进半导体生产能力。年，Mask市场超过40亿美元，年将达到59亿美元，年均增长4.5%。GreenOptics计划基于抛光技术，与韩国陶瓷研究院、STI等合作开发EUVBlankMask。

GreenOptics相关人士表示，“我们对BlankMask抛光技术充满信心，我们将为开发EUVBlankMask做出最大努力。”