离子束抛光加工IonBeamFiguring,IBF已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺,离子源是离子束抛光机的核心部件.上海伯东美国KRI直流电源式考夫曼离子源KDC系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机IBFOpticalcoating及晶体硅片离子束抛光机IBFClrystalline)工艺.考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度,使抛光刻蚀速率更快更准确,抛光后的基材上获得更平坦,均匀性更高的薄膜表面.KDC考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行.上海伯东是美国KRI考夫曼离子源中国总代理.KRI离子源离子束抛光实际案例一:1.基材:mm光学镜片2.离子源条件:Vb:V(离子束电压),Ib:84mA(离子束电流),Va:-V(离子束加速电压),Argas(氩气).

KRI离子源离子束抛光实际案例二:1.基材:mm晶体硅片2.离子源条件:Vb:0V(离子束电压),Ib:69mA(离子束电流),Va:-V(离子束加速电压)Argas(氩气)

KRI离子源实际安装案例一:KDC10使用于光学镀膜离子束抛光机KRI离子源实际安装案例二:KDC40使用于晶体硅片离子束抛光机上海伯东美国KRI考夫曼离子源KDC系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:

年Dr.Kaufman博士在美国创立KaufmanRobinson,Inc公司,研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源.美国考夫曼离子源历经40年改良及发展已取得多项专利.离子源广泛用于离子清洗PC,离子蚀刻IBE,辅助镀膜IBAD,离子溅射镀膜IBSD领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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