电解抛光过程中温度的变化会给电解抛光带来很大的影响。如图所示，是温度对阳极曲线的影响曲线。随着电解液温度的升高，极限扩散电流逐渐增大，当温度高于90度时，表面抛光的起始电流密度大，阳极铜片的溶解速度过快，

因而铜片表面易生成点状或条状腐蚀。当电解液温度低于60度时，传质过程慢，抛光起始电流密度太低，阳极铜片的溶解速度慢，溶解下来的离子不能很快的扩散开来，容易在阳极表面形成铜离子和HEDP的多核配合物，使铜片表面出现蓝色沉淀物膜或麻点。因此，对应任何一种电化学抛光液，均有一个最佳的抛光温度范围。对于HEDP电抛光铜而言，最佳的温度范围是70-80度。