抛光

一种新型的内孔抛光技术,流体内孔抛光,直

发布时间:2025/1/15 12:37:43   
内孔抛光技术目前也是比较多的,但是针对精密工件内孔抛光,需要显著提升光洁度、降低粗糙度,且需要均匀、高效,在这种情况下,使用什么工艺好呢?我们来介绍一种新型的,利用磨粒流体进行内孔抛光的工艺!00:29原理介绍:如视频所示,针对内孔内壁的流体抛光,是一种物理抛光方式,利用弹性软磨料进行挤压研磨,从而提升内壁光洁度。弹性软磨料经过增压系统后,挤压进入工件孔内,进行精细研磨。磨料类型通常为高分子碳化硅软磨料,钻石软磨料等。内孔抛光控制方式:通过PLC控制,可调节参数包括压力、时间、流速等。参数可记忆保持,以便于下次调用。效果说明:通过磨粒流抛光后的内壁光洁度,可以在原有基础上,提升3-5个档次,如原始粗糙度是0.8,可以抛到0.2或以下;原始粗糙度是0.2,可以抛到0.05或以下。内孔原始光洁度越高,使用流体抛光后的光洁度就更容易提升!甚至可以达到超精密水准!内壁抛光效率说明:一般金属工件,每次抛光时间在3-5分钟,根据工件尺寸,每次抛光的数量不一样,越小的工件,每次可以抛光的数量越多。如果是硬质合金工件,抛光时间要长一点,一般在10-40分钟不等。异型孔抛光优势说明:1、精度高、精度可控,不伤工件;2、物理抛光,没有腐蚀性;3、可处理各种微细孔、异型孔、交叉孔;4、效率高,效果均匀且彻底。

转载请注明:http://www.aideyishus.com/lkcf/7722.html
------分隔线----------------------------