一．抛光粉的总类：

抛光粉常常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份构成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因而应用局面各不不异。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化硅为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因而遍及用于玻璃的抛光。

为了增添氧化铈的抛光速率，常常在氧化铈抛光粉插足氟以增添磨削率。铈含量较低的搀杂稀土抛光粉常常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛光粉常常不掺氟。

对ZF或F系列的玻璃来讲，由于自己硬度较小，况且材料自己的氟含量较高，因而因采用不含氟的抛光粉为好。

二．对抛光粉的根基请求：

（1）微粉粒度平均一致，在许可的局限以内；

（2）有较高的纯度，不含机器杂质；

（3）有优越的散开性，以保证加工历程的平均和高效，可适当增加散开剂升高悬浮率；

（4）粉末颗粒有必要的晶格形态，破灭时构成厉害的棱角，以升高抛光效率；

（5）有恰当的硬度和密度，和水有很好的浸湿性和悬浮性，由于抛光粉需求与水搀杂

粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越恰当于较硬的材料，要注意的是，所

有的抛光粉的颗粒度都有一个散布题目，平衡粒径或中位径D50的巨细只决计了抛光速率的快慢，而最大粒径Dmax决计了抛光精度的高下。因而，要获得高精度请求，必需管束抛光粉的最大颗粒。

抛光粉的确实硬度与材料相关，如氧化铝的硬度便是莫氏硬度9左右，百般氧化铝都差未几。但不同的氧化铝给人觉得硬度不同。由于烧成温度不同，团圆体的强度也不同样，因而使历时会有硬度不同样的觉得，产物呈现出来的磨削率和耐磨性都邑不同样。这个需求有阅历的临盆工场按照抛不同物资去管束。

抛光历程中浆料的浓度决计了抛光速率,浓度越大抛光速率越高。应用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因恰当调低以获得恰当的起伏性，时时提倡在7-10%

三．抛光模的取舍

抛光模理当用软一点的。理当指出的是，良多聚氨酯抛光片中增加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决计了最后的抛光精度。时时最佳应用不加抛光粉的抛光模。

四．影响抛光粉功用的目标

1、粉体的粒度巨细：颗粒的巨细及平均度决计了抛光速率和精度，过筛的筛网目数能管束粉体相对的粒度的值，平衡粒度决计了抛光粉颗粒巨细的团体水准。

2、粉体莫氏硬度：硬度相对大的粉体具备较快的切削成绩，同时增加一些助磨剂等等也同样能升高切削成绩；不同的运用周围会有很大收支，包含自己加工工艺。

3、粉体悬浮性：好的抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形态和粒度巨细对悬浮功用具备必要的影响，片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，但不是决对的。抛光粉悬浮功用的升高也可经过加悬浮液（剂）来改正。

4、粉体的晶型：粉体的晶型是团圆在一同的单晶颗粒，决计了粉体的切削性、耐磨性及起伏性。粉体团圆在一同的单晶颗粒在抛光历程中离别（破灭），使其切削性、耐磨性逐步降落，不规矩的六边形晶型颗粒具备优越的切削性、耐磨性和起伏性。

五．抛光局限细分：

做为精密抛光材料，暂时墟市上用量最大的几类抛光粉主假如氧化铝抛光粉，氧化铈抛光粉，氧化硅抛光粉等。

1．氧化铝抛光粉：

氧化铝抛光粉（VK-LF）时时用于大理石石材抛光，金属铝材抛光，金属不锈钢抛光，金相（亚克力板）抛光，PCB印制电路板抛光，油漆抛光，树脂抛光，玉石抛光，颗粒巨细按照请求时时散布在0.2-0.5um之间。

2.二氧化硅抛光粉：

时时用于人为晶体，宝石抛光，可能金属成品精抛后修理其少许的缺点。其粒径时时散布在0.3-1um

3.氧化铈抛光粉可能抛光液(VK-Ce02W)：

用于镜头、电视显像管、眼镜片、晶圆，光学元件、光纤、艺术玻璃、电子玻璃、平板玻璃等的抛光。一次粒径时时请求在20-30nm,二次粒径时时请求0.2um。