甚么是抛光？抛光即是把物体毛糙的表面变得滑润。抛光的旨趣大体能够归结为三种理论：板滞去除理论、化学效用理论、热的表面固定理论。

一、稀土抛光的三种理论板滞去除理论1

板滞去除理论以为：①抛光是研磨的继承，抛光与研磨的实质是不异的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面实行轻微切削效用的结局。②由于抛光是用较细颗粒的抛光剂，因而轻微切削效用能够在分子范畴内实行。由于抛光模与工件表面彼此相符，抛光时切向力希奇大，是以使玻璃表面的凹凸构造被切削掉，逐步构成滑润的表面。

化学效用理论2

化学效用理论以为：抛光经过是在玻璃表层、抛光剂、抛光模和水的效用下，产生扑朔迷离的化学经过。主若是玻璃表面产生的水解经过，是水解生成物——硅酸凝胶薄膜继承生成和继承刮除的经过。

热的表面固定理论3

热的表面固定理论以为：玻璃表面由于高压和相对行动，争持生热使表面构成塑性固定，隆起的部份将凹下填平，构成滑润的抛光表面。

图1稀土抛光粉

抛光粉即是抛光经过顶用的粉状磨介，时常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份构成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，是以运用局面各不不异。铈基稀土抛光粉是较为要紧的抛光粉产物之一。因其具备切削技能强，抛光时候短、抛光精度高、职掌处境洁净等益处，故比另外抛光粉（如Fe2O3红粉）的运用成绩佳，而被人们称为"抛光粉之王"。

二、稀土抛光粉分类

稀土抛光粉的重要成份是CeO2,据其CeO2量的凹凸可将铈抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉，正常CeO2/TREO≥80%；一类是CeO2含量低的便宜的低铈抛光粉，其铈含量在50%左右，或许低于50%,另外由La2O3,Nd2O3,Pr6O11构成。

备注：TREO（TotalRareEarthOxides）是稀土氧化物总量的事理。

关于高铈抛光粉来说，氧化铈的档次越高，抛光技能越大，运用寿命也增多，希奇是硬质玻璃万古间轮回抛光时（石英、光学镜头号），以运用高档次的铈抛光粉为好。

图2高铈抛光粉可用于光学镜头号材料的抛光管教

低铈抛光粉正常含有50%左右的CeO2,另外50%为La2O3SO3,Nd2O3SO3,Pr6O11SO3等碱性无水硫酸盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物，此类抛光粉特性是成本低及初始抛光技能与高铈抛光粉比险些没有两样，因此宽泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但运用寿命未免要比高铈抛光粉低。

图3低铈抛光粉可用于眼镜片抛光

三、稀土抛光粉的粒度及粒度散布对抛光粉功用的影响

关于必定组分和加工工艺的抛光粉，均匀颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速率和表面毛糙度越大。在大普遍情景下，颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速率最大。相悖地，假使抛光粉颗粒均匀粒度较小，则磨削量缩小，磨削速率低落，玻璃表面平坦度抬高，准则抛光粉正常有较窄的粒度散布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高原料的表面，而细颗粒少的抛光粉能抬高磨削速率。

稀土抛光粉临盆技能属于微粉工程技能，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上正常将超细粉体分3种：纳米级（1nm~nm）；亚微米级（nm~1μm）；微米级（1μm~μm），据此分类办法，稀土抛光粉能够分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，时常咱们运用的稀土抛光粉正常为微米级，其粒度散布在1μm~10μm之间，稀土抛光粉凭借其物理化学性质正常运用在玻璃抛光的末了工序，实行精磨，是以其粒度散布正常不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉（包含稀土抛光粉）大多用在玻璃加工早期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘范畴的运用逐步遭到注意，产量逐年抬高。纳米级稀土抛光粉现在也曾经问世，跟着当代科学技能的进展，其运用前程不行猜测。

四、稀土抛光粉资料

现在，我国临盆铈系稀土抛光粉的资料有以下几种：

1）氧化铈（CeO2），由搀和稀土盐类经别离后所得（w(CeO2)=99%）；

2）搀和稀土氢氧化物(RE(OH)3)，为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学管教后的中央资料(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)；

3）搀和氯化稀土（RECl3），从搀和氯化稀土中萃取别离获得的少铕氯化稀土，重要含La,Ce,Pr和Nd,w(REO)≥45%,w(CeO2)≥50%)；

4）高档次稀土精矿(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包头搀和型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。

以上资猜中除第1种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%。我国具备充实的铈资本，据测算，其产业储量约为万吨（以CeO2计），是我国私有的一大上风，并可增进我国稀土产业继承高速进展。

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