一、材料性质：TC4钛合金具有优良的耐蚀性、小的密度、高的比强度及较好的韧性。

二、TC4钛合金抛光理论：由于TC4钛合金具有优良的耐蚀性，采用普通的CMP化学机械抛光工艺很难解决，要靠更强的机械作用切削和优良冷却系统完成。由于TC4钛合金具有高的比强度及较好的韧性，因此散热性不好，由此干抛的方式基本不可能达到镜面，须采用湿式抛光工艺才行。

三、抛光工艺:

1、粗抛：表面移出量大于30um,才需采用此工工序！最佳方案川菱研磨垫CL-Pad-A搭配多晶氧化铝研磨液CL-TC4-LA15，实测平均移除量可达8um/min，研磨后产品表面光滑细腻，无麻点桔皮、无起泡等不良现象。

2、中抛：表面移出量大于10um,才需采用此工工序！最佳方案川菱研磨垫CL-Pad-A搭配多晶氧化铝研磨CL-TC4-LA10，实测平均移除量可达6um/min，研磨后产品表面光滑细腻，无麻点桔皮、无起泡等不良现象。

3、抛光：光泽度GU，最佳方案川菱研磨垫CL-Pad-搭配多晶氧化铝研磨CL-TC4-PL02，实测平均移除量可达1um/min，抛光后产品表面黑亮，40X显微镜无麻点桔皮、无起泡等不良现象。