当前位置: 抛光 >> 抛光市场 >> EUV光刻机事件重演,这次是14nm芯片
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美国不停修改半导体市场的出货规则,先是不允许ASML自由出货EUV光刻机,然后美企芯片企业的5G芯片不能随意给特定客户。
没有了EUV光刻机,许多7nm及以下的高端芯片便无法顺利生产。美国不打算就此停手,EUV光刻机事件重演,这次用于生产14nm芯片的设备也要被限。
怎么回事呢?美国也需要中企的刻蚀机,能效仿对方的做法吗?
EUV光刻机之后,14nm芯片设备也被限芯片制造是一项非常复杂的产业,需要全球化供应链的参与。掌握芯片制程技术的企业,需购买光刻机、抛光机、离子注入机等诸多半导体设备。同时也要采购大量的光刻胶,氖气等材料。
如果没能在供应链中顺利采购所需的物料,哪怕掌握相应的芯片制造技术,也无法将芯片造出来,或者造出来的芯片并非是最先进的。
美国打了一手算盘,不希望ASML公司的EUV光刻机随意出货给大陆客户。
EUV光刻机是生产7nm及以下芯片的必要设备,台积电,三星采购了大量的EUV光刻机。不仅成功量产7nm,5nm等高端工艺芯片,而且产能庞大,为智能手机,电脑等行业提供所需产能。
那些无法获得EUV光刻机的芯片制造商,只能生产14nm,28nm等成熟制程芯片。然而美国再次变脸,EUV光刻机事件重演,14nm芯片设备也传出被限的消息。
根据美媒消息称,美国半导体设备供应商科磊,泛林这两家公司已经收到指示,不能随意出货14nm芯片设备,除非获得许可。
14nm是中企在高端及成熟工艺制程之间的关键节点,全球能掌握14nm芯片制造技术的厂商屈指可数。一旦这类设备也被限,会发生什么恐怕会和EUV光刻机被限的处境一样,需要调整工艺布局了。
其实在美国
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