随着科技的不断进步,硬脆材料如蓝宝石、碳化硅等,被广泛应用于航空航天、半导体、光电子、微电子机械系统等领域。然而,硬脆材料的高硬度、低韧性等特性也对它的研磨抛光工艺提出了更高的要求。

尤其是硬脆材料的抛光技术,这是一项复杂且精细的工艺,旨在降低材料表面的粗糙度,获得光亮、平整表面,达到所需要求。在抛光过程中,需要选择合适的抛光材料和工艺参数,并采用适当的设备和工具来实现理想的抛光效果。硬脆材料的抛光过程更具挑战性,因为硬度高的材料通常更难抛光,容易引起表面损伤和粗糙度不达标的问题。

深圳中机新材料有限公司作为国内领先的研磨抛光材料解决方案服务商,针对硬脆材料抛光的需求,推出了一系列产品,包括抛光液及其配套使用的抛光垫,其中用于碳化硅衬底抛光工序有高锰酸钾氧化铝粗抛液+无纺布粗抛垫,和二氧化硅精抛液+黑色阻尼布精抛垫。用于蓝宝石衬底及光学片抛光工序有氧化硅抛光液+黑色阻尼布精抛垫,和氧化铝抛光液+聚氨酯抛光垫。

其中高锰酸钾氧化铝粗抛液采用进口聚晶氧化铝微粉为主要原料,添加了高锰酸钾,利用高锰酸钾的强氧化性,对SiC片表面进行腐蚀,再通过氧化铝的机械作用来达到对SiC片的高去除率抛光,配合无纺布粗抛垫特别适用于高硬度物质和半导体材料的抛光。

(以上图片产品参数仅供参考,可根据客户需求定制)

二氧化硅精抛液采用高纯度硅溶胶为主要原料,使用简便,抛光件表面易清洗,在抛光机以及抛光垫上无沉积,配合黑色阻尼布精抛垫可以达到极低的表面粗糙度及极低的表面损伤。

氧化硅抛光液采用高纯的纳米二氧化硅原料,搭配特殊的抛光配方产品具有良好的分散悬浮性,高速的减薄效率,优质的抛光表面,质量稳定,循环寿命长,易清洗,不易结晶。

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氧化铝抛光液采用进口多晶氧化铝原料,搭配合适的抛光液配方,具有良好的分散性、多晶类粉体在提高抛光速率的同时,大大提高了表面质量及良率,且质量稳定,循环寿命长,易清洗,不易结晶。

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深圳中机新材料公司在硬脆材料抛光技术和产品方面积累了丰富的经验和专业知识,能够满足客户在硬脆材料抛光过程中的需求,为客户提供优质的抛光解决方案。