抛光

等离子表面处理工艺

发布时间:2025/1/7 19:55:42   
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纳米抛光被称为等离子抛光。等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-1.5纳米。

抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面在化学物质。

离子纳米抛光工艺的优势

1、减轻环保压力。辉碟自动化可以有限公司所使用的纳米抛光液非常环保,其废液可以直接排放而不会造成污染,也可以稍作处理回收利用。

2、降低生产成本。半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备采用自动化控制,操作简单,维护方便,减少作业人员、降低人工成本。



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